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ion-beam stencil mask

См. также в других словарях:

  • Ion beam lithography — By analogy to E beam lithography, focused ion beam lithography scans an ion beam across a surface to form a pattern. The ion beam may be used for directly sputtering the surface, or may induce chemical reactions in the exposed top layer (resist) …   Wikipedia

  • Patterned medium protoypes — Patterned Medium Prototypes are prototypes that assist in the development of pattern media research. Pattern media has predefined single domains bits that may contain multiple grains which can be extended to a single grain per bit density.… …   Wikipedia

  • Next-generation lithography — (NGL) is a term used in integrated circuit manufacturing to describe the lithography technologies slated to replace photolithography. As of 2009 the most advanced form of photolithography is immersion lithography, in which water is used as an… …   Wikipedia

  • Ionenstrahllithografie — Die Ionenstrahllithografie, oftmals abgekürzt Ionenlithografie, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zu Herstellung einer strukturierten dünnen Schicht, die als Opferschicht für nachfolgende Abscheidungs , Ätzungs und Implantationsprozesse… …   Deutsch Wikipedia

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